2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题会议

以高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术，可以明显提高薄膜结构可控性，进而获得优异的薄膜性能，在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步，国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨，为其发展与应用带来了蓬勃动力！

中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织，于2017年提出在国内举办高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题研讨会，并连续在上海、兰州和深圳成功举办三届，交流报告数量和质量显著提升，交流内容涉及高功率脉冲磁控溅射过程中电子与离子的相互作用，深振荡、中频叠加等电源与阴极靶结构协同控制等基础研究，工艺参数对膜层性能的影响、工业化存在的主要问题及对策等。参会人员由80人迅速增加到200余人，通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业的对接，推动了我国高功率脉冲磁控溅射技术的发展。

近年来，国家对科技创新日益关注，习近平总书记多次强调创新的重要性，科技创新被提到了十分重要的位置。重庆作为中西部唯一的直辖市、国家先进制造业中心，在国家区域发展和对外开放格局中具有独特而重要的作用，必将为本次创新型会议提供良好的交流氛围；同时，本次具有技术前瞻性的学术会议在重庆召开，也将推动当地薄膜技术的发展进步。

经中国机械工程学会表面工程分会与西南大学材料与能源学院协商，定于2023年10月20～22日在重庆召开“2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”。热忱欢迎国内外从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会，同时，也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业参加会议和提供支持！

【会议组织机构】

学术委员会：

主席：

雷明凯 中国机械工程学会表面工程分会 主任委员

田修波 哈尔滨工业大学 教授

委员：

段海涛 魏世丞 刘宣勇 刘敏 乔培新 朱旻昊

李红轩 张津 张伟 朱嘉琦 汪爱英 杨冠军

姜肃猛 魏建军 李长久 王立平 范多旺 吴勇

孙超 王周成 陈庆川 夏原 张俊彦 谭俊

冯煜东 李刘合 刘莹 任妮 刘彭义 范平

组织委员会：

主席：

段金弟 中国机械工程学会表面工程分会 总干事

孙德恩 西南大学 教授

吴忠振 北京大学深圳研究生院 教授

委员：

蔺增 朱小鹏 唐振方 罗景庭 张广安 陈辉

金莹 雷占许 冷永祥 邓畅光 孙晓峰 谢玉江

王启民 李昱鹏 岩雨 唐光泽 古乐 王铁钢

李玉阁 曹辉亮 邓春明 陈茜 贺定勇 柯培玲

许一 杭瑞强 曾志翔 林修洲 金杰 马飞

亓建伟 苏峰华 马天宝 蒲吉斌 马国政 郑军

张旭海 涂杰松 冯凯 鞠鹏飞 钟萍 占稳

祁正兵 米新艳 杜昊 吴爱民 张侃 隋旭东

欧伊翔 张海宝 吴正涛

会议秘书：

张存修 蒋超

以下内容为GPT视角对高功率脉冲磁控溅射技术与应用相关领域的解读，仅供参考：

高功率脉冲磁控溅射技术发展现状

高功率脉冲磁控溅射技术是一种先进的表面处理技术，具有广泛的应用前景。这种技术目前已经应用于现代建筑、民用住宅、汽车、电子等领域，并且逐渐展示出其独特的优势和潜力。

然而，该技术的发展还面临一些挑战。例如，脉冲磁控溅射技术需要消耗大量能量，设备的成本较高，而且沉积效率也不尽如人意。此外，该技术的工艺参数需要进一步优化，以获得更好的性能和更广泛的应用。

尽管如此，高功率脉冲磁控溅射技术的发展前景依然十分广阔。未来，随着技术的不断进步和完善，相信这种表面处理技术将能够更好地满足各种应用需求，为工业和科技发展带来更多的机遇和挑战。

高功率脉冲磁控溅射技术典型应用领域

1. 微电子领域：作为非热式镀膜技术，高功率脉冲磁控溅射技术可用于生长困难或不适用的材料薄膜，如Al、Cu、Au、W、Ti等金属电极薄膜以及TiN、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AIN等介质薄膜。这些薄膜可作为欧姆接触层或栅绝缘层或扩散势垒层等，在大规模集成电路、太阳能电池、发光二极管等制造中发挥重要作用。
2. 装饰镀膜领域：高功率脉冲磁控溅射技术可实现各种颜色和光学膜系的溅射沉积，如制备TiN金黄色膜系，在汽车装饰、建筑玻璃等领域得到广泛应用。
3. 工具镀膜领域：高功率脉冲磁控溅射技术可用于制备硬质涂层、抗黏附涂层、耐磨涂层等，如TiN、TiCN、CrN等涂层，显著提高工具的耐磨性、抗黏附性和使用寿命。

高功率脉冲磁控溅射技术前沿科技

1. 脉冲电源技术的改进：为了获得更高的沉积速率和更好的薄膜质量，需要研发出更高功率、更高稳定性的脉冲电源。目前，一些新型的脉冲电源如纳秒脉冲电源、调制脉冲电源等已经开始得到应用，未来还有望研发出更高级别的脉冲电源。
2. 磁控溅射工艺的优化：优化磁控溅射工艺参数，包括脉冲宽度、脉冲能量、脉冲频率、溅射气压等，以提高薄膜的沉积速率、质量、致密度等。同时，采用多靶磁控溅射技术、反应磁控溅射技术等，可进一步提高薄膜的性能和适用性。
3. 新型材料的研发：利用高功率脉冲磁控溅射技术，可以沉积各种新型材料，如高温超导材料、纳米材料、复合材料等。这些新型材料的研发和应用，将为未来的科技发展带来新的机遇和挑战。
4. 跨学科的应用研究：高功率脉冲磁控溅射技术的应用研究已经涉及到多个领域，如能源、生物、环保等。未来，随着科技的发展和交叉融合，高功率脉冲磁控溅射技术的应用研究还将进一步扩展和深化。

高功率脉冲磁控溅射技术领域知名品牌

1. 腾胜科技：该公司是国内较早从事脉冲磁控溅射技术研究和开发的企业，具有较高的知名度和影响力。
2. 宏大真空：该公司在真空镀膜领域拥有多年的研发和生产经验，是高功率脉冲磁控溅射技术领域的重要参与者之一。
3. 汇成真空：该公司在真空镀膜领域拥有广泛的技术和产品，在高功率脉冲磁控溅射技术领域也有一定的市场份额。
4. 东威科技：该公司是一家专业从事表面处理设备制造的企业，其脉冲磁控溅射设备在业界有一定的知名度和口碑。

高功率脉冲磁控溅射技术领域知名专家

1. Ferreira教授：来自葡萄牙的Fábio Ferreira教授是脉冲磁控溅射技术领域的知名专家，他在高功率脉冲磁控溅射技术的研究和应用方面有着显著的贡献。
2. 朱嘉琦教授：来自哈尔滨工业大学的朱嘉琦教授是表面工程领域的知名专家，他在高能脉冲溅射、磁控溅射等领域有着丰富的经验和突出的研究成果。
3. 李志伟教授：来自台湾明治科技大学的李志伟教授是纳米材料制备领域的知名专家，他在利用脉冲磁控溅射技术制备纳米材料方面有着重要的贡献。
4. 庞晓露教授：来自北京科技大学的庞晓露教授是界面科学领域的知名专家，她在界面强结合膜层开裂对基体损伤机制及防护研究方面有着重要的成果。
5. 张侃教授：来自吉林大学的张侃教授是材料科学领域的知名专家，他在高硬高韧薄膜材料的微结构设计及环境自适应调控方面有着突出的研究成果。
6. 林海平总经理：来自东莞市华升真空镀膜科技有限公司的林海平总经理是真空镀膜领域的资深专家，他在HiPIMS+Arc镀膜技术平台的研究和开发方面有着重要的贡献。
7. 雷明凯教授：来自大连理工大学的雷明凯教授是等离子体物理领域的知名专家，他在高功率脉冲磁控溅射等离子体模拟研究方面有着显著的研究成果。
8. 汪爱英研究员：来自中科院宁波材料技术与工程研究所的汪爱英研究员是海洋腐蚀防护领域的知名专家，她在面向海洋腐蚀防护的HiPIMS涂层关键技术方面有着重要的研究成果。
9. 张海宝博士：来自北京印刷学院的张海宝博士是表面工程领域的知名专家，他在高功率脉冲磁控溅射沉积二氧化钒热致变色薄膜的研究方面有着重要的成果。
10. 孙德恩教授：来自西南大学的孙德恩教授是材料科学领域的知名专家，他在硬质薄膜的结构设计与耐蚀性实现方面有着重要的研究成果。