2023年集成电路与新型显示领域中的真空技术应用论坛

为促进真空科技与产业的发展，增进会员单位之间的交流与合作，兹定于2023年11月21日在上海锦荣国际大酒店举办“集成电路与新型显示领域中的真空技术应用论坛”会议围绕第23届中国国际工业博览会产业发展论坛主题，结合真空相关产业技术发展，推进新型显示技术产学研合作，推进集成电路技术与相关领域的融合发展，推动社会经济和科技发展，服务上海具有全球影响力的科创中心建设。

拟邀请知名专家作微电子、集成电路、新型显示技术等相关领域的发展与应用报告，为真空会员单位提供交流合作平台，会议以“集成电路，创新应用”为主题，同时举行第九届三次理事会和第七届上海真空青年创新奖颁奖仪式。诚挚邀请学会理事、监事、团体会员单位派代表参加。

以下内容为GPT视角对集成电路与新型显示领域中的真空技术应用相关领域的解读，仅供参考：

集成电路与新型显示领域中的真空技术应用案例

1. 集成电路制造：在集成电路制造过程中，真空技术被广泛应用于光刻、刻蚀、沉积、清洗等环节。例如，真空光刻技术是通过将光通过光栅照射到涂有光刻胶的硅片上，然后通过真空系统将光刻胶上的图形转移到硅片上。真空刻蚀技术则是通过将硅片置于真空中，然后通过射频电源产生等离子体，等离子体中的粒子与硅片表面反应，从而将硅片表面的材料刻蚀掉。

2. 新型显示制造：在新型显示制造过程中，真空技术也被广泛应用于制备液晶面板、OLED面板等。例如，真空沉积技术是将金属氧化物等薄膜材料沉积在玻璃基板上，然后通过光刻等技术制作出电极、沟道等结构。真空清洗技术则是通过将玻璃基板置于真空中，然后通过蒸汽等将基板上的杂质清洗掉。

3. 半导体器件测试：在半导体器件测试过程中，真空技术被用于真空热电测试、真空热磁测试等。例如，真空热电测试是通过将半导体器件置于真空中，然后通过加热器加热器件，通过测量器件的电压和电流变化来判断器件的性能。

集成电路与新型显示领域中的真空技术包含哪些内容

1. 真空沉积技术：这是一种在真空环境中将薄膜材料沉积在基底上的技术，常用于制备集成电路和显示器件中的各种电极、导体、绝缘体和半导体材料。例如，物理式真空镀膜（PVD）和化学式真空镀膜（CVD）就是两种常见的真空沉积技术。

2. 真空刻蚀技术：这是一种在真空环境中通过等离子体或化学反应将基底上的材料刻蚀掉的技术，常用于制备集成电路和显示器件中的各种微细结构。

3. 真空清洗技术：这是一种在真空环境中通过蒸汽或其他方法将基底上的杂质和污染物清洗掉的技术，常用于提高集成电路和显示器件的纯度和质量。

4. 真空测试技术：这是一种在真空环境中对半导体器件进行性能测试的技术，例如真空热电测试和真空热磁测试等。

5. 原子层沉积（ALD）技术：这是一种在真空环境中通过层层叠加原子级厚度的薄膜材料来制备高性能器件的技术，被认为是目前最先进的薄膜沉积技术。