第五届国际先进光刻技术研讨会

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会议时间:2021-10-27 ~ 2021-10-29
举办场地:佛山市 导航
主办单位:中国光学学会 更多会议
大会主席:曹健林
参会嘉宾:
曹健林 - 中国集成电路创新联盟理事长
叶甜春 - 02专项技术总师 中国集成电路联盟秘书长
韦亚一 - 中科院计算光刻研发中心主任 集成电路计算光刻与设计优化开放实验室主任
刘旭 - 中国光学学会秘书长 浙江大学光电工程研究所所长
Akiyoshi Suzuki - SPIE Fellow
Yanqiu Li - Professor Beijing Institute of Technology
Will Conley - SPIE Fellow Scientist, Cymer
会议介绍
中国集成电路产业蓬勃发展,基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战
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